第69章 挑战 (第3/6页)

阶段时Binah所有伤害抗性较高（0.8），且会在进入第三阶段时立刻释放一次暴虐之碑。在此阶段下玩家将失去暂停游戏的能力。她也会获得全新的能力：

    ??暴虐之碑：Binah会让除研发部外随机8个收容单元进入熔毁-暴虐之碑。随後，Binah会进入施法状态，不同颜色的钥匙会不断地在Binah身边出现并环绕其四周。若熔毁-暴虐之碑倒计时结束且未被处理或未被完全处理，她会向8个方向发射钥匙，对沿途的职员造成70-84点对应的伤害，并且使经过的收容单元进入熔毁状态。当Binah处在施法状态时，她会免疫任何伤害。

    ??释放完暴虐之碑後，Binah会依照之前的行动模式移动，且仍然可能准备再一次释放暴虐之碑或是释放共鸣。

    ??Binah战难点

    ??Binah抑制核心的滤镜

    ??Binah二阶段转换时的滤镜

    ??1/3

    ??和Geburah的抑制核心相似，Binah的抑制核心亦需要通过击败Sephirah而不是积攒能量及达到逆流等级来完成。和Geburah以强悍的战斗力为威胁所不同的是，Binah的强大主要体现在她能令极大面积的收容单元进入熔毁状态，从而让主管同时陷入应对大量的熔毁和镇压Binah的双重困境。如果主管在设施内指派的员工数量欠佳，则可能会因Binah导致多个异想体出逃，从而使设施陷入彻头彻尾的混乱之中。因此，建议不要在缺乏员工的情况下选择抑制Binah的核心。